- Sections
- H - électricité
- H05H - Technique du plasma; production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutrons; production ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/10 - Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiques; Dispositions pour chauffer le plasma utilisant uniquement des champs magnétiques appliqués
Détention brevets de la classe H05H 1/10
Brevets de cette classe: 37
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tae Technologies, Inc. | 220 |
10 |
| Alpha Ring International, Ltd. | 33 |
4 |
| Lockheed Martin Corporation | 3406 |
3 |
| General Fusion Inc. | 72 |
3 |
| Torus Tech LLC | 9 |
2 |
| The Regents of the University of California | 18943 |
1 |
| The Boeing Company | 19843 |
1 |
| Hitachi, Ltd. | 16452 |
1 |
| Vapor Technologies, Inc. | 63 |
1 |
| Brookhaven Science Associates, LLC | 199 |
1 |
| Canon Anelva Corporation | 676 |
1 |
| China University of Geosciences, Beijing | 59 |
1 |
| The George Washington University | 408 |
1 |
| Phase Four, Inc. | 15 |
1 |
| Varex Imaging Corporation | 294 |
1 |
| INFICON Holding AG | 164 |
1 |
| Tibbar Plasma Technologies, Inc. | 6 |
1 |
| Nex-Gen Solar Technologies, LLC | 3 |
1 |
| Université Paris-saclay | 431 |
1 |
| Electric Sky Holdings, Inc. | 11 |
1 |
| Autres propriétaires | 0 |